Doc. No. PR071203
2007年12月3日
コータ・デベロッパの最速モデル「RF
3T
」を発売
〜世界最高レベルの生産性を実現〜
株式会社SOKUDO(本社:京都市下京区/社長:末武 隆成)はこのほど、毎時200枚という世界最高レベル
※
の生産性を実現した300ミリウエハー対応のコータ・デベロッパ「RF
3T
(アール・エフ・キューブ・ティ)」を開発。2008年春から販売を開始します。
近年、半導体業界では、デジタル家電、各種ゲーム機器、携帯音楽プレーヤーなどの市場拡大や多機能化を背景に、さらなる微細化に向けた取り組みが進められており、2008年には45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスによるデバイスの本格的な量産が始まると予想されています。そのため各半導体メーカーでは、超微細化に高い歩留まりで対応できるプロセス性能と優れた生産性を兼ね備えた装置の早期導入に向けた動きが活発になっています。
今回発売する「RF
3T
」は、45ナノメートル以降の次世代デバイスにも対応できるコータ・デベロッパ(塗布現像装置)として評価の高い「RF
3
(アール・エフ・キューブ)」シリーズの最上位モデルとなるもので、8デベロッパ対応をはじめとするプロセスユニット搭載数の拡張、搬送システムの高速化などプラットホーム性能を極限まで高め、露光装置の高スループット化に対応可能な1時間当たり200枚という世界最高レベルの生産性を実現しています。さらに、レジスト消費量削減システムを採用するなど、露光装置の性能を最大限に引き出し、生産性の大幅な向上と同時にCoO(Cost of Ownership)の低減も可能にする装置となっています。
当社は、今回の「RF
3T
」の発売により優れた生産性を一層強化し、半導体の超微細化を支える製造装置業界において、コータ・デベロッパのさらなるシェアの拡大を目指します。そして今後も、加速し続ける半導体関連産業の進化・発展に貢献していきます。
※ 2007年11月現在。
*この装置は、12月5日(水)から7日(金)まで千葉「幕張メッセ」で開催される「SEMICON Japan 2007」でご紹介します。
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株式会社SOKUDO
大日本スクリーン製造株式会社と米国・アプライド マテリアルズ社による合弁企業。半導体製造用コータ・デベロッパ(塗布現像装置)の開発・製造・販売・保守を目的として、2006年7月3日に設立された。
(
www.sokudo.com
)
RF
3T
(アール・エフ・キューブ・ティ)
この画像の印刷用データ(300dpi)は、
下記URLよりダウンロードできます。
(
www.sokudo.com/ja/press/pr-photo/index.html
)
お問い合わせ先
株式会社SOKUDO プロダクトマネージメント部
担当:チャールズ ペチュレスキー、長嶋 広路
Tel:075-256-8246
E-mail:
info@sokudospeed.com
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